Questão de Química
Comparando-se o processo de epitaxia com outros processos de deposição, podemos afirmar que:
A
deposições de óxido são consideradas epitaxiais, uma vez que são feitas consumindo silício do substrato.
B
o processo de epitaxia visa depositar silício policristalino, orientado a partir do substrato.
C
o processo de epitaxia visa depositar silício monocristalino empregando o substrato como semente.
D
o processo de deposição CVD permite depositar alumínio de maneira epitaxial sobre o substrato.
E
deposições empregando processos térmicos como oxidação são as mais utilizadas para se obter filmes epitaxiais.
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