Questão de Química Analítica e Espectroscopia
Qual é a rugosidade típica da superfície de uma lâmina de silício após as etapas de remoção de material grossa (coarse) e fina (fine) em um processo de afinamento de lâmina para a fabricação de semicondutores?
A
Coarse: 2 \, ext{µm RMS} ; Fine: 20 \, ext{µm RMS}
B
Coarse: 20 \, ext{µm RMS} ; Fine: 2 \, ext{µm RMS}
C
Coarse: 2 \, ext{µm RMS} ; Fine: 2 \, ext{µm RMS}
D
Coarse: 2 \, ext{µm RMS} ; Fine: 2 \, ext{nm RMS}
E
Coarse: 2 \, ext{nm RMS} ; Fine: 2 \, ext{nm RMS}
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