Questão de Eletrônica Analógica
No processo de oxidação térmica dentro do forno de oxidação, para produção da atmosfera oxidante a que a lâmina de silício será exposta provocando o crescimento do óxido de silício (SiO2), são normalmente utilizados:
A
gás ionizado ou plasma.
B
vácuo ou O2.
C
O2 ou H2O.
D
CO2 ou NO2.
E
vácuo ou SO2.
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